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高純度希土類金属製造プロセスに関する基礎研究 高 純度 希土類 金属 製造 プロセス 基礎

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著者

    • 佐野浩行 サノ, ヒロユキ

書誌事項

タイトル

高純度希土類金属製造プロセスに関する基礎研究

タイトル別名

高 純度 希土類 金属 製造 プロセス 基礎

著者名

佐野浩行

著者別名

サノ, ヒロユキ

学位授与大学

名古屋大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第4271号

学位授与年月日

1999-03-25

注記・抄録

博士論文

名古屋大学博士学位論文 学位の種類:博士(工学) (課程) 学位授与年月日:平成11年3月25日

目次

  1. 目次 / (0003.jp2)
  2. I.緒論 / p1 (0006.jp2)
  3. I.章の参考文献 / p13 (0012.jp2)
  4. II.ネオジム中の不純物の定量分析 / p17 (0014.jp2)
  5. 2.1 緒言 / p17 (0014.jp2)
  6. 2.2 分析試料の前処理 / p17 (0014.jp2)
  7. 2.3 カルシウムならびにモリブデンの定量分析 / p18 (0015.jp2)
  8. 2.4 酸素の定量分析 / p19 (0015.jp2)
  9. 2.5 フッ素の定量分析 / p23 (0017.jp2)
  10. 2.6 結言 / p32 (0022.jp2)
  11. II.章の参考文献 / p33 (0022.jp2)
  12. III.ネオジムの酸素溶解度 / p34 (0023.jp2)
  13. 3.1 緒言 / p34 (0023.jp2)
  14. 3.2 固相エレクトロトランスポート法による酸素溶解度の推定原理 / p35 (0023.jp2)
  15. 3.3 固相拡散法による酸素溶解度の測定原理 / p37 (0024.jp2)
  16. 3.4 実験装置と方法 / p39 (0025.jp2)
  17. 3.5 実験結果および考察 / p45 (0028.jp2)
  18. 3.6 結言 / p58 (0035.jp2)
  19. III.章の参考文献 / p59 (0035.jp2)
  20. IV.NdF₃のカルシウム還元 / p60 (0036.jp2)
  21. 4.1 緒言 / p60 (0036.jp2)
  22. 4.2 還元に影響をおよぼす因子 / p61 (0036.jp2)
  23. 4.3 予備実験 / p62 (0037.jp2)
  24. 4.4 実験方法 / p72 (0042.jp2)
  25. 4.5 結果および考察 / p73 (0042.jp2)
  26. 4.6 還元工程の最適化 / p92 (0052.jp2)
  27. 4.7 結言 / p94 (0053.jp2)
  28. IV.章の参考文献 / p95 (0053.jp2)
  29. V.ハライド系フラックスによるネオジムの脱酸 / p97 (0054.jp2)
  30. 5.1 緒言 / p97 (0054.jp2)
  31. 5.2 Nd-NdF₃-Nd₂O₃系 / p98 (0055.jp2)
  32. 5.3 フラックス処理後のネオジム中の酸素濃度の推算 / p104 (0058.jp2)
  33. 5.4 NdF₃によるネオジムの脱酸 / p112 (0062.jp2)
  34. 5.5 フラックス処理による脱酸限界 / p114 (0063.jp2)
  35. 5.6 結言 / p119 (0065.jp2)
  36. Appendix I / p120 (0066.jp2)
  37. V.章の参考文献 / p121 (0066.jp2)
  38. VI.真空溶解によるネオジム中不純物の除去 / p122 (0067.jp2)
  39. 6.1 緒言 / p122 (0067.jp2)
  40. 6.2 真空溶解に影響をおよぼす因子 / p123 (0067.jp2)
  41. 6.3 ネオジム中のカルシウムの除去限界 / p123 (0067.jp2)
  42. 6.4 実験方法 / p125 (0068.jp2)
  43. 6.5 結果および考察 / p133 (0072.jp2)
  44. 6.6 最適真空溶解条件 / p158 (0085.jp2)
  45. 6.7 結言 / p160 (0086.jp2)
  46. Appendix II / p161 (0086.jp2)
  47. VI.章の参考文献 / p163 (0087.jp2)
  48. VII.ネオジム中の酸素の固相エレクトロトランスポート / p164 (0088.jp2)
  49. 7.1 緒言 / p164 (0088.jp2)
  50. 7.2 エレクトロトランスポートの基本概念 / p165 (0088.jp2)
  51. 7.3 実験装置と方法 / p172 (0092.jp2)
  52. 7.4 実験結果および考察 / p173 (0092.jp2)
  53. 7.5 高純度化処理 / p180 (0096.jp2)
  54. 7.6 結言 / p200 (0106.jp2)
  55. Appendix III / p201 (0106.jp2)
  56. VII.章の参考文献 / p203 (0107.jp2)
  57. VIII.総括 / p204 (0108.jp2)
  58. 謝辞 / p207 (0109.jp2)
  59. 研究業績 / p208 (0110.jp2)
1アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000172974
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000173250
  • DOI(NDL)
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000000337288
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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