RF高密度プラズマを用いた高アスペクト比SiO[2]エッチングとその反応機構
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著者
書誌事項
- タイトル
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RF高密度プラズマを用いた高アスペクト比SiO[2]エッチングとその反応機構
- 著者名
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鎭西, 康彦
- 著者別名
-
チンゼイ, ヤスヒコ
- 学位授与大学
-
東洋大学
- 取得学位
-
博士(工学)
- 学位授与番号
-
甲第63号
- 学位授与年月日
-
1999-03-25
注記・抄録
博士論文
目次
- 第5章 平板型磁気中性ループ放電(NLD)エッチャーの開発とそのプラズマ特性 / p49 (0029.jp2)
- 5.1 序論 / p49 (0029.jp2)
- 5.2 磁気中性ループ放電(NLD)の原理 / p49 (0029.jp2)
- 5.3 実験装置 / p49 (0029.jp2)
- 5.4 結果と考察 / p51 (0030.jp2)
- 5.5 結論 / p58 (0034.jp2)
- 参考文献 / p60 (0035.jp2)
- 第6章 ガス流量のSiO₂孔高アスぺクト比形成 / p61 (0035.jp2)
- 6.1 序論 / p61 (0035.jp2)
- 6.2 実験装置 / p61 (0035.jp2)
- 6.3 結果と考察 / p61 (0035.jp2)
- 6.4 結論 / p69 (0039.jp2)
- 参考文献 / p69 (0039.jp2)
- 第7章 HFE227(tetrafluoroethyl trifluoromethyl ether)への有機シラン添加による高選択比･高アスぺクト比SiO₂エッチング / p70 (0040.jp2)
- 7.1 序論 / p70 (0040.jp2)
- 7.2 実験装置 / p70 (0040.jp2)
- 7.3 結果及び考察 / p70 (0040.jp2)
- 7.4 結論 / p86 (0048.jp2)
- 参考文献 / p86 (0048.jp2)
- 第8章 C₃F₆+trimethylsilane(TMS)へのO₂添加による高アスぺクト比SiO₂エッチング / p87 (0048.jp2)
- 8.1 序論 / p87 (0048.jp2)
- 8.2 実験装置 / p87 (0048.jp2)
- 8.3 結果と考察 / p88 (0049.jp2)
- 目次 / p1 (0004.jp2)
- 第1章 序論 / p1 (0005.jp2)
- 1.1 研究の背景 / p1 (0005.jp2)
- 1.2 本研究の目的 / p5 (0007.jp2)
- 1.3 本研究の概要 / p5 (0007.jp2)
- 参考文献 / p8 (0009.jp2)
- 第2章 時間変調ヘリコン波プラズマ(HWP)による高選択比SiO₂/Siエッチング / p10 (0010.jp2)
- 2.1 序論 / p10 (0010.jp2)
- 2.2 ヘリコン波プラズマ(HWP)の生成原理 / p10 (0010.jp2)
- 2.3 実験装置 / p11 (0010.jp2)
- 2.4 結果と考察 / p13 (0011.jp2)
- 2.5 結論 / p18 (0014.jp2)
- 参考文献 / p20 (0015.jp2)
- 第3章 高温の内壁中における誘導結合プラズマ(ICP)によるSiO₂エッチング / p21 (0015.jp2)
- 3.1 序論 / p21 (0015.jp2)
- 3.2 誘導結合プラズマ(ICP)の生成原理 / p21 (0015.jp2)
- 3.3 実験装置 / p23 (0016.jp2)
- 3.4 結果と考察 / p24 (0017.jp2)
- 3.5 結論 / p33 (0021.jp2)
- 参考文献 / p33 (0021.jp2)
- 第4章 誘導結合プラズマ(ICP)を用いた高密度フロロカーボンプラズマによるSiO₂とSiエッチング反応の滞在時間､及びAr添加効果 / p34 (0022.jp2)
- 4.1 序論 / p34 (0022.jp2)
- 4.2 実験装置 / p34 (0022.jp2)
- 4.3 結果と考察 / p35 (0022.jp2)
- 4.4 結論 / p46 (0028.jp2)
- 参考文献 / p48 (0029.jp2)
- 8.4 結論 / p98 (0054.jp2)
- 参考文献 / p100 (0055.jp2)
- 第9章 総括 / p101 (0055.jp2)
- 9.1 本研究のまとめ / p101 (0055.jp2)
- 9.2 今後の課題と展望 / p104 (0057.jp2)
- 謝辞 / p105 (0057.jp2)
- 論文リスト / p106 (0058.jp2)