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RF高密度プラズマを用いた高アスペクト比SiO[2]エッチングとその反応機構

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著者

    • 鎭西, 康彦 チンゼイ, ヤスヒコ

書誌事項

タイトル

RF高密度プラズマを用いた高アスペクト比SiO[2]エッチングとその反応機構

著者名

鎭西, 康彦

著者別名

チンゼイ, ヤスヒコ

学位授与大学

東洋大学

取得学位

博士(工学)

学位授与番号

甲第63号

学位授与年月日

1999-03-25

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 第5章 平板型磁気中性ループ放電(NLD)エッチャーの開発とそのプラズマ特性 / p49 (0029.jp2)
  2. 5.1 序論 / p49 (0029.jp2)
  3. 5.2 磁気中性ループ放電(NLD)の原理 / p49 (0029.jp2)
  4. 5.3 実験装置 / p49 (0029.jp2)
  5. 5.4 結果と考察 / p51 (0030.jp2)
  6. 5.5 結論 / p58 (0034.jp2)
  7. 参考文献 / p60 (0035.jp2)
  8. 第6章 ガス流量のSiO₂孔高アスぺクト比形成 / p61 (0035.jp2)
  9. 6.1 序論 / p61 (0035.jp2)
  10. 6.2 実験装置 / p61 (0035.jp2)
  11. 6.3 結果と考察 / p61 (0035.jp2)
  12. 6.4 結論 / p69 (0039.jp2)
  13. 参考文献 / p69 (0039.jp2)
  14. 第7章 HFE227(tetrafluoroethyl trifluoromethyl ether)への有機シラン添加による高選択比・高アスぺクト比SiO₂エッチング / p70 (0040.jp2)
  15. 7.1 序論 / p70 (0040.jp2)
  16. 7.2 実験装置 / p70 (0040.jp2)
  17. 7.3 結果及び考察 / p70 (0040.jp2)
  18. 7.4 結論 / p86 (0048.jp2)
  19. 参考文献 / p86 (0048.jp2)
  20. 第8章 C₃F₆+trimethylsilane(TMS)へのO₂添加による高アスぺクト比SiO₂エッチング / p87 (0048.jp2)
  21. 8.1 序論 / p87 (0048.jp2)
  22. 8.2 実験装置 / p87 (0048.jp2)
  23. 8.3 結果と考察 / p88 (0049.jp2)
  24. 目次 / p1 (0004.jp2)
  25. 第1章 序論 / p1 (0005.jp2)
  26. 1.1 研究の背景 / p1 (0005.jp2)
  27. 1.2 本研究の目的 / p5 (0007.jp2)
  28. 1.3 本研究の概要 / p5 (0007.jp2)
  29. 参考文献 / p8 (0009.jp2)
  30. 第2章 時間変調ヘリコン波プラズマ(HWP)による高選択比SiO₂/Siエッチング / p10 (0010.jp2)
  31. 2.1 序論 / p10 (0010.jp2)
  32. 2.2 ヘリコン波プラズマ(HWP)の生成原理 / p10 (0010.jp2)
  33. 2.3 実験装置 / p11 (0010.jp2)
  34. 2.4 結果と考察 / p13 (0011.jp2)
  35. 2.5 結論 / p18 (0014.jp2)
  36. 参考文献 / p20 (0015.jp2)
  37. 第3章 高温の内壁中における誘導結合プラズマ(ICP)によるSiO₂エッチング / p21 (0015.jp2)
  38. 3.1 序論 / p21 (0015.jp2)
  39. 3.2 誘導結合プラズマ(ICP)の生成原理 / p21 (0015.jp2)
  40. 3.3 実験装置 / p23 (0016.jp2)
  41. 3.4 結果と考察 / p24 (0017.jp2)
  42. 3.5 結論 / p33 (0021.jp2)
  43. 参考文献 / p33 (0021.jp2)
  44. 第4章 誘導結合プラズマ(ICP)を用いた高密度フロロカーボンプラズマによるSiO₂とSiエッチング反応の滞在時間、及びAr添加効果 / p34 (0022.jp2)
  45. 4.1 序論 / p34 (0022.jp2)
  46. 4.2 実験装置 / p34 (0022.jp2)
  47. 4.3 結果と考察 / p35 (0022.jp2)
  48. 4.4 結論 / p46 (0028.jp2)
  49. 参考文献 / p48 (0029.jp2)
  50. 8.4 結論 / p98 (0054.jp2)
  51. 参考文献 / p100 (0055.jp2)
  52. 第9章 総括 / p101 (0055.jp2)
  53. 9.1 本研究のまとめ / p101 (0055.jp2)
  54. 9.2 今後の課題と展望 / p104 (0057.jp2)
  55. 謝辞 / p105 (0057.jp2)
  56. 論文リスト / p106 (0058.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000174501
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000174777
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000338815
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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