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ポーラスシリコンの構造制御と発光特性に関する研究

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著者

    • 中川, 隆史 ナカガワ, タカシ

書誌事項

タイトル

ポーラスシリコンの構造制御と発光特性に関する研究

著者名

中川, 隆史

著者別名

ナカガワ, タカシ

学位授与大学

東京農工大学

取得学位

博士(工学)

学位授与番号

甲第219号

学位授与年月日

1999-03-25

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / (0004.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0008.jp2)
  3. 1-1 研究の背景 / p1 (0008.jp2)
  4. 1-2 本研究の目的 / p6 (0013.jp2)
  5. 第2章 磁界印加陽極酸化法 / p8 (0015.jp2)
  6. 2-1 はじめに / p8 (0015.jp2)
  7. 2-2 磁界印加陽極酸化法 / p9 (0016.jp2)
  8. 2-3 評価内容 / p12 (0019.jp2)
  9. 第3章 構造的性質 / p14 (0021.jp2)
  10. 3-1 はじめに / p14 (0021.jp2)
  11. 3-2 評価方法 / p16 (0023.jp2)
  12. 3-3 多孔質構造に与える効果 / p18 (0025.jp2)
  13. 3-4 PS/Si界面に与える効果 / p25 (0032.jp2)
  14. 3-5 まとめ / p27 (0034.jp2)
  15. 第4章 発光特性 / p29 (0036.jp2)
  16. 4-1 はじめに / p29 (0036.jp2)
  17. 4-2 評価方法 / p30 (0037.jp2)
  18. 4-3 基礎発光特性評価 / p33 (0040.jp2)
  19. 4-4 光学的均一性に関する評価 / p36 (0043.jp2)
  20. 4-5 発光特性の励起波長依存性 / p39 (0046.jp2)
  21. 4-6 PLの発光減衰特性 / p41 (0048.jp2)
  22. 4-7 まとめ / p42 (0049.jp2)
  23. 第5章 磁界印加陽極酸化機構 / p45 (0052.jp2)
  24. 5-1 はじめに / p45 (0052.jp2)
  25. 5-2 評価方法 / p46 (0053.jp2)
  26. 5-3 多孔度と発光特性の関係 / p49 (0056.jp2)
  27. 5-4 化学的結合状態に与える効果 / p53 (0060.jp2)
  28. 5-5 アノードポテンシャルに与える効果 / p54 (0061.jp2)
  29. 5-6 平均実効化数(n値)に与える効果 / p59 (0066.jp2)
  30. 5-7 印加磁化効果のHF濃度依存性 / p61 (0068.jp2)
  31. 5-8 磁界印加陽極酸化法のモデル / p63 (0070.jp2)
  32. 5-9 まとめ / p65 (0072.jp2)
  33. 第6章 応用への展開 / p66 (0073.jp2)
  34. 6-1 はじめに / p66 (0073.jp2)
  35. 6-2 PS発光素子作製への有効性 / p67 (0074.jp2)
  36. 6-3 電気化学的酸化法との融合によるPS諸特性の改善 / p72 (0079.jp2)
  37. 6-4 まとめ / p78 (0085.jp2)
  38. 第7章 Siナノ周期構造の作製 / p79 (0086.jp2)
  39. 7-1 はじめに / p79 (0086.jp2)
  40. 7-2 Siナノ周期構造 / p79 (0086.jp2)
  41. 7-3 実験方法 / p80 (0087.jp2)
  42. 7-4 磁界印加陽極酸化法の効果 / p82 (0089.jp2)
  43. 7-5 Siナノ周期構造における磁界印加陽極酸化法の効果 / p86 (0093.jp2)
  44. 7-6 Siナノ周期構造の形成および外部印加磁界効果のモデル / p94 (0101.jp2)
  45. 7-7 まとめ / p98 (0105.jp2)
  46. 第8章 結論 / p99 (0106.jp2)
  47. 付録 / p102 (0109.jp2)
  48. 参考文献 / p106 (0113.jp2)
  49. 要旨 / (0006.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000174876
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000175153
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000339190
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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