Defect Formation in Transparent Materials for vacuum-uv Optics by Energetic Photon or Ion Beams 高エネルギーフォトンまたはイオンビーム照射による真空紫外用光学材料中の欠陥生成

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著者

    • 水口, 雅史 ミズグチ, マサフミ

書誌事項

タイトル

Defect Formation in Transparent Materials for vacuum-uv Optics by Energetic Photon or Ion Beams

タイトル別名

高エネルギーフォトンまたはイオンビーム照射による真空紫外用光学材料中の欠陥生成

著者名

水口, 雅史

著者別名

ミズグチ, マサフミ

学位授与大学

東京工業大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第4399号

学位授与年月日

2000-03-26

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 論文目録 / (0002.jp2)
  2. CONTENTS / (0005.jp2)
  3. 1 General Introduction / p1 (0008.jp2)
  4. 1.1 Road Map of Photolithography / p1 (0008.jp2)
  5. 1.2 Color Centers in CaF₂ Single Crystals / p2 (0009.jp2)
  6. 1.3 UV Laser-Induced Defects in SiO₂ Glasses / p4 (0011.jp2)
  7. 1.4 Ion Implantation-Induced Defects in SiO₂ Glasses / p5 (0012.jp2)
  8. 1.5 Objectives and Outline / p6 (0013.jp2)
  9. References / p7 (0014.jp2)
  10. Figures / p9 (0016.jp2)
  11. 2 Color Center Formation in CaF₂ Single Crystalsby ArF Excimer Laser Irradiation / p15 (0022.jp2)
  12. 2.1 Introduction / p15 (0022.jp2)
  13. 2.2 Experimental / p17 (0024.jp2)
  14. 2.3 Results / p18 (0025.jp2)
  15. 2.4 Discussion / p20 (0027.jp2)
  16. 2.5 Summary / p24 (0031.jp2)
  17. References / p25 (0032.jp2)
  18. Tables and Figures / p27 (0034.jp2)
  19. 3 Time-Resolved Photoluminescence for Diagnosisof Laser-Damage Toughness / p37 (0044.jp2)
  20. 3.1 Introduction / p37 (0044.jp2)
  21. 3.2 Experimental / p39 (0046.jp2)
  22. 3.3 Results / p40 (0047.jp2)
  23. 3.4 Discussion / p44 (0051.jp2)
  24. 3.5 Summary / p47 (0054.jp2)
  25. References / p49 (0056.jp2)
  26. Tables and Figures / p51 (0058.jp2)
  27. 4 Photochemical Processes Induced by F₂ Excimer Laser Irradiation in SiO₂ Glasses / p63 (0070.jp2)
  28. 4.1 Introduction / p64 (0071.jp2)
  29. 4.2 Experimental / p65 (0072.jp2)
  30. 4.3 Results / p66 (0073.jp2)
  31. 4.4 Discussion / p70 (0077.jp2)
  32. 4.5 Summary / p75 (0082.jp2)
  33. References / p77 (0084.jp2)
  34. Tables and Figures / p79 (0086.jp2)
  35. 5 Pulsed EPR Measurements of F₂ Laser-Damaged SiO₂ Glass / p93 (0100.jp2)
  36. 5.1 Introduction / p94 (0101.jp2)
  37. 5.2 Experimental / p98 (0105.jp2)
  38. 5.3 Results / p99 (0106.jp2)
  39. 5.4 ESEEM Simulation / p101 (0108.jp2)
  40. 5.5 Summary / p108 (0115.jp2)
  41. References / p109 (0116.jp2)
  42. Figures / p111 (0118.jp2)
  43. 6 Analysis of Hyperfine Structures of E'-Type Centers in SiO₂ Glass Implanted with ²⁹Si Ion / p118 (0125.jp2)
  44. 6.1 Introduction / p119 (0126.jp2)
  45. 6.2 Experimental / p120 (0127.jp2)
  46. 6.3 Identification of Four Sets of Doublets / p122 (0129.jp2)
  47. 6.5 Depth Profiles of the Defects and Structural Change / p128 (0135.jp2)
  48. 6.6 Summary / p132 (0139.jp2)
  49. References / p133 (0140.jp2)
  50. Figures / p135 (0142.jp2)
  51. 7 General Conclusion / p144 (0151.jp2)
  52. Publication List / p149 (0156.jp2)
  53. Acknowledgment / p153 (0160.jp2)
8アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000197888
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000198196
  • DOI(NDL)
  • 本文言語コード
    • eng
  • NDL書誌ID
    • 000000393098
  • データ提供元
    • NDL ONLINE
    • NDLデジタルコレクション
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