Fabrication and retention property of ferroelectric gate capacitors using YMnO3/Y2O3/Si epitaxial system エピタキシャルYMnO3/Y2O3/Siを用いた強誘電体ゲートキャパシタの作製とその記憶保持特性

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著者

    • 伊藤, 大輔 イトウ, ダイスケ

書誌事項

タイトル

Fabrication and retention property of ferroelectric gate capacitors using YMnO3/Y2O3/Si epitaxial system

タイトル別名

エピタキシャルYMnO3/Y2O3/Siを用いた強誘電体ゲートキャパシタの作製とその記憶保持特性

著者名

伊藤, 大輔

著者別名

イトウ, ダイスケ

学位授与大学

大阪府立大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第828号

学位授与年月日

2003-03-31

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000231283
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000231798
  • 本文言語コード
    • eng
  • NDL書誌ID
    • 000004132020
  • データ提供元
    • NDL ONLINE
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