A study on light scattering characteristics of CMP-induced defects on silicon oxide wafer surface for defects detection and classification CMP加工表面薄膜欠陥の光散乱現象の解析とその評価

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著者

    • 河, 兌[ホ] ハ, テホ

書誌事項

タイトル

A study on light scattering characteristics of CMP-induced defects on silicon oxide wafer surface for defects detection and classification

タイトル別名

CMP加工表面薄膜欠陥の光散乱現象の解析とその評価

著者名

河, 兌[ホ]

著者別名

ハ, テホ

学位授与大学

大阪大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第9194号

学位授与年月日

2003-03-25

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000231781
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000232301
  • 本文言語コード
    • eng
  • NDL書誌ID
    • 000004137406
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
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