Low temperature preparation of ferroelectric thin films by hydrothermal treatment 水熱処理による強誘電体薄膜の低温成長

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著者

    • 魏, 志強 ギ, シキョウ

書誌事項

タイトル

Low temperature preparation of ferroelectric thin films by hydrothermal treatment

タイトル別名

水熱処理による強誘電体薄膜の低温成長

著者名

魏, 志強

著者別名

ギ, シキョウ

学位授与大学

大阪大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第9270号

学位授与年月日

2003-03-25

注記・抄録

博士論文

14401甲第09270号

博士(工学)

大阪大学

2003-03-25

17904

0アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000231857
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000232378
  • 本文言語コード
    • eng
  • NDL書誌ID
    • 000004137958
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
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