被覆工具用α-Al2O3CVD膜のエピタキシャル成長と高密着性に関する研究

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著者

    • 石井, 敏夫 イシイ, トシオ

書誌事項

タイトル

被覆工具用α-Al2O3CVD膜のエピタキシャル成長と高密着性に関する研究

著者名

石井, 敏夫

著者別名

イシイ, トシオ

学位授与大学

大阪大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

乙第8598号

学位授与年月日

2003-01-24

注記・抄録

博士論文

14401乙第08598号

博士(工学)

大阪大学

2003-01-24

17405

0アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000231946
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000232468
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000004139560
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
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