高純度同位体30Siを用いたSi自己拡散に関する研究

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著者

    • 中林, 幸雄 ナカバヤシ, ユキオ

書誌事項

タイトル

高純度同位体30Siを用いたSi自己拡散に関する研究

著者名

中林, 幸雄

著者別名

ナカバヤシ, ユキオ

学位授与大学

慶應義塾大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第2119号

学位授与年月日

2003-03-23

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000232078
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000232601
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000004159205
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
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