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Studies on low dielectric film process using high-density plasma 高密度プラズマを用いた低誘電率膜プロセスに関する研究

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著者

    • 永井, 久雄 ナガイ, ヒサオ

書誌事項

タイトル

Studies on low dielectric film process using high-density plasma

タイトル別名

高密度プラズマを用いた低誘電率膜プロセスに関する研究

著者名

永井, 久雄

著者別名

ナガイ, ヒサオ

学位授与大学

名古屋大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第5874号

学位授与年月日

2003-03-25

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000233078
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000233609
  • 本文言語コード
    • eng
  • NDL書誌ID
    • 000004178267
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
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