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有機シリコン化合物を用いたプラズマCVDによる高分子基板へのシリカ膜形成に関する研究

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著者

    • 手嶋, 勝弥 テシマ, カツヤ

書誌事項

タイトル

有機シリコン化合物を用いたプラズマCVDによる高分子基板へのシリカ膜形成に関する研究

著者名

手嶋, 勝弥

著者別名

テシマ, カツヤ

学位授与大学

名古屋大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第5884号

学位授与年月日

2003-03-25

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000233088
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000233619
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000004178385
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
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