人工口腔装置におけるスクロースのう蝕原性に及ぼすニ糖類キシロシルフルクトシドの影響について Effect of disaccharide xylosylfructoside on cariogenicity of sucrose in artificial mouth system

この論文をさがす

著者

    • 鴨田, 剛司 カモダ, タケシ

書誌事項

タイトル

人工口腔装置におけるスクロースのう蝕原性に及ぼすニ糖類キシロシルフルクトシドの影響について

タイトル別名

Effect of disaccharide xylosylfructoside on cariogenicity of sucrose in artificial mouth system

著者名

鴨田, 剛司

著者別名

カモダ, タケシ

学位授与大学

日本歯科大学

取得学位

博士 (歯学)

学位授与番号

甲第843号

学位授与年月日

2003-03-14

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000233891
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000234427
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000004195105
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
ページトップへ