LSI製造における薄膜プロセス起因の欠陥発生メカニズムとその抑制に関する研究 LSI セイゾウ ニ オケル ハクマク プロセス キイン ノ ケッカン ハッセイ メカニズム ト ソノ ヨクセイ ニ カンスル ケンキュウ
この論文にアクセスする
この論文をさがす
著者
書誌事項
- タイトル
-
LSI製造における薄膜プロセス起因の欠陥発生メカニズムとその抑制に関する研究
- タイトル別名
-
LSI セイゾウ ニ オケル ハクマク プロセス キイン ノ ケッカン ハッセイ メカニズム ト ソノ ヨクセイ ニ カンスル ケンキュウ
- 著者名
-
長田, 芳裕
- 著者別名
-
オサダ, ヨシヒロ
- 学位授与大学
-
京都大学
- 取得学位
-
博士 (工学)
- 学位授与番号
-
乙第11216号
- 学位授与年月日
-
2003-03-24
注記・抄録
博士論文
