Study on spin-on antireflective coatings for thinner resist process in deep UV lithography レジスト薄膜化に対応したDeep UVリソグラフィー用塗布型反射防止膜に関する研究

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著者

    • 佐藤, 康彦 サトウ, ヤスヒコ

書誌事項

タイトル

Study on spin-on antireflective coatings for thinner resist process in deep UV lithography

タイトル別名

レジスト薄膜化に対応したDeep UVリソグラフィー用塗布型反射防止膜に関する研究

著者名

佐藤, 康彦

著者別名

サトウ, ヤスヒコ

学位授与大学

東京工業大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

乙第3707号

学位授与年月日

2004-01-31

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000295022
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000295822
  • 本文言語コード
    • eng
  • NDL書誌ID
    • 000007718034
  • データ提供元
    • NDL ONLINE
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