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Development of novel resist process for nano-scale devices ナノスケールのデバイスに向けた新規レジストプロセスの開発

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著者

    • 渡部, 慶二 ワタナベ, ケイジ

書誌事項

タイトル

Development of novel resist process for nano-scale devices

タイトル別名

ナノスケールのデバイスに向けた新規レジストプロセスの開発

著者名

渡部, 慶二

著者別名

ワタナベ, ケイジ

学位授与大学

東京農工大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

生甲第110号

学位授与年月日

2006-03-24

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000356137
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000357259
  • 本文言語コード
    • eng
  • NDL書誌ID
    • 000008474297
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
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