Development of novel resist process for nano-scale devices ナノスケールのデバイスに向けた新規レジストプロセスの開発

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Author

    • 渡部, 慶二 ワタナベ, ケイジ

Bibliographic Information

Title

Development of novel resist process for nano-scale devices

Other Title

ナノスケールのデバイスに向けた新規レジストプロセスの開発

Author

渡部, 慶二

Author(Another name)

ワタナベ, ケイジ

University

東京農工大学

Types of degree

博士 (工学)

Grant ID

生甲第110号

Degree year

2006-03-24

Note and Description

博士論文

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    500000356137
  • NII Author ID (NRID)
    • 8000000357259
  • Text Lang
    • eng
  • NDLBibID
    • 000008474297
  • Source
    • NDL ONLINE

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