Theoretical analysis on the reaction mechanisms of reducing agents for electroless deposition processes 無電解析出プロセスにおける還元剤反応機構の理論的解析

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著者

    • 島田, 拓哉 シマダ, タクヤ

書誌事項

タイトル

Theoretical analysis on the reaction mechanisms of reducing agents for electroless deposition processes

タイトル別名

無電解析出プロセスにおける還元剤反応機構の理論的解析

著者名

島田, 拓哉

著者別名

シマダ, タクヤ

学位授与大学

早稲田大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第2321号

学位授与年月日

2007-03-15

注記・抄録

博士論文

制度:新 ; 文部省報告番号:甲2321号 ; 学位の種類:博士(工学) ; 授与年月日:2007/3/15 ; 早大学位記番号:新4383

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000396962
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000398185
  • 本文言語コード
    • eng
  • NDL書誌ID
    • 000009042029
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL ONLINE
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