A study on modeling of chemical characteristics of strain-induced silicon wafer surfaces 歪みシリコンウェハ表面の化学特性のモデリングに対する研究
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著者
書誌事項
- タイトル
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A study on modeling of chemical characteristics of strain-induced silicon wafer surfaces
- タイトル別名
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歪みシリコンウェハ表面の化学特性のモデリングに対する研究
- 著者名
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阪田, 薫穂
- 著者別名
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サカタ, カオルホ
- 学位授与大学
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早稲田大学
- 取得学位
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博士 (工学)
- 学位授与番号
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甲第2597号
- 学位授与年月日
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2008-03-15
注記・抄録
博士論文
制度:新 ; 文部省報告番号:甲2597号 ; 学位の種類:博士(工学) ; 授与年月日:2008/3/15 ; 早大学位記番号:新4756
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