Formation and structural control of silicon in electrochemical and thermochemical processes 電気化学及び熱化学プロセスによるシリコンの形成と構造制御

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著者

    • 西村, 友作 ニシムラ, ユウサク

書誌事項

タイトル

Formation and structural control of silicon in electrochemical and thermochemical processes

タイトル別名

電気化学及び熱化学プロセスによるシリコンの形成と構造制御

著者名

西村, 友作

著者別名

ニシムラ, ユウサク

学位授与大学

京都大学

取得学位

博士 (エネルギー科学)

学位授与番号

甲第15493号

学位授与年月日

2010-03-23

注記・抄録

博士論文

1アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000503861
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000505520
  • 本文言語コード
    • eng
  • NDL書誌ID
    • 000010894827
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL ONLINE
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