First-principle calculation for the surface reaction processes of 3-nitride semiconductors 第一原理計算による3族窒化物半導体の表面反応過程の解析

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著者

    • 鈴木, ひかり スズキ, ヒカリ

書誌事項

タイトル

First-principle calculation for the surface reaction processes of 3-nitride semiconductors

タイトル別名

第一原理計算による3族窒化物半導体の表面反応過程の解析

著者名

鈴木, ひかり

著者別名

スズキ, ヒカリ

学位授与大学

東京農工大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第675号

学位授与年月日

2010-03-25

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000524249
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000526096
  • 本文言語コード
    • eng
  • NDL書誌ID
    • 000011005276
  • データ提供元
    • NDL ONLINE
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