光反応性単分子膜を用いた熱ナノインプリントリソグラフィ Thermal nanoimprint lithography with a photo-reactive monolayer

Author

    • 小田, 博和 オダ, ヒロカズ

Bibliographic Information

Title

光反応性単分子膜を用いた熱ナノインプリントリソグラフィ

Other Title

Thermal nanoimprint lithography with a photo-reactive monolayer

Author

小田, 博和

Author(Another name)

オダ, ヒロカズ

University

東京工業大学

Types of degree

博士 (工学)

Grant ID

甲第8003号

Degree year

2010-03-26

Note and Description

博士論文

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    500000547822
  • NII Author ID (NRID)
    • 8000000549915
  • Text Lang
    • jpn
  • NDLBibID
    • 023314802
  • Source
    • NDL ONLINE
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