Reactions of atomic hydrogen and oxygen with deuterium-covered silicon (D/Si) surfaces 水素原子及び酸素原子と重水素化されたシリコン表面の反応

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著者

    • Md. Arifur Rahman Khan エムディー アリフル ラハマン カーン

書誌事項

タイトル

Reactions of atomic hydrogen and oxygen with deuterium-covered silicon (D/Si) surfaces

タイトル別名

水素原子及び酸素原子と重水素化されたシリコン表面の反応

著者名

Md. Arifur Rahman Khan

著者別名

エムディー アリフル ラハマン カーン

学位授与大学

九州工業大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第270号

学位授与年月日

2008-09-30

注記・抄録

博士論文

九州工業大学博士学位論文(要旨) 学位記番号:工博甲第270号 学位授与年月日:平成20年9月30日

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000549183
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000551290
  • 本文言語コード
    • eng
  • NDL書誌ID
    • 023349293
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL ONLINE
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