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SiC表面原子ステップ制御と超高温熱分解法によるエピタキシャル・グラフェン成長

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著者

    • 牛尾, 昌史 ウシオ, ショウジ

書誌事項

タイトル

SiC表面原子ステップ制御と超高温熱分解法によるエピタキシャル・グラフェン成長

著者名

牛尾, 昌史

著者別名

ウシオ, ショウジ

学位授与大学

関西学院大学

取得学位

博士 (理学)

学位授与番号

甲第430号

学位授与年月日

2012-03-16

注記・抄録

博士論文

10アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000560281
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000562488
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 023888824
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
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