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Deposition of copper oxide thin films by chemical techniques 化学的手法による酸化銅薄膜の堆積

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著者

    • Muhibbullah, Muhammad ムヒブラ, ムハマド

書誌事項

タイトル

Deposition of copper oxide thin films by chemical techniques

タイトル別名

化学的手法による酸化銅薄膜の堆積

著者名

Muhibbullah, Muhammad

著者別名

ムヒブラ, ムハマド

学位授与大学

名古屋工業大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第814号

学位授与年月日

2012-03-23

注記・抄録

博士論文

主査:市村 正也

3アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000560513
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000562724
  • 本文言語コード
    • eng
  • NDL書誌ID
    • 023891364
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
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