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L1[0]-FePt系薄膜を用いたナノドット作製と微細磁区構造解析に関する研究

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著者

    • 長谷川, 崇 ハセガワ, タカシ

書誌事項

タイトル

L1[0]-FePt系薄膜を用いたナノドット作製と微細磁区構造解析に関する研究

著者名

長谷川, 崇

著者別名

ハセガワ, タカシ

学位授与大学

秋田大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第578号

学位授与年月日

2009-03-22

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000561228
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000563442
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 023904152
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
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