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半導体パターン計測の高精度化のためのSEM画像解析に関する研究 Research on the scanning electron microscopy image analysis for realizing highly accurate measurement of semiconductor pattern

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著者

    • 宍戸, 千絵 シシド, チエ

書誌事項

タイトル

半導体パターン計測の高精度化のためのSEM画像解析に関する研究

タイトル別名

Research on the scanning electron microscopy image analysis for realizing highly accurate measurement of semiconductor pattern

著者名

宍戸, 千絵

著者別名

シシド, チエ

学位授与大学

横浜国立大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第1474号

学位授与年月日

2012-03-23

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000561503
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000563717
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 023907767
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
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