Formation of silicon nanocrystals by thermal plasma jet induced millisecond annealing and its application to floating-gate memories 熱プラズマジェット照射ミリ秒熱処理によるシリコンナノ結晶形成とそのフローティングゲートメモリ応用
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著者
書誌事項
- タイトル
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Formation of silicon nanocrystals by thermal plasma jet induced millisecond annealing and its application to floating-gate memories
- タイトル別名
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熱プラズマジェット照射ミリ秒熱処理によるシリコンナノ結晶形成とそのフローティングゲートメモリ応用
- 著者名
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岡田, 竜弥
- 著者別名
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オカダ, タツヤ
- 学位授与大学
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広島大学
- 取得学位
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博士 (工学)
- 学位授与番号
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甲第5007号
- 学位授与年月日
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2009-09-07
注記・抄録
博士論文
