超低誘電率膜を用いた微細多層配線技術の研究 Study of fine-pitch multilevel interconnects using ultralow-k film

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Author

    • 隣, 真一 チカキ, シンイチ

Bibliographic Information

Title

超低誘電率膜を用いた微細多層配線技術の研究

Other Title

Study of fine-pitch multilevel interconnects using ultralow-k film

Author

隣, 真一

Author(Another name)

チカキ, シンイチ

University

広島大学

Types of degree

博士 (工学)

Grant ID

甲第5295号

Degree year

2010-09-06

Note and Description

博士論文

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    500000561558
  • NII Author ID (NRID)
    • 8000000563772
  • Text Lang
    • jpn
  • NDLBibID
    • 023908102
  • Source
    • NDL ONLINE

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