A study on atomic order flattening technology of Si wafer and its application 原子オーダ平坦化シリコンの形成方法とその応用に関する研究
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著者
書誌事項
- タイトル
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A study on atomic order flattening technology of Si wafer and its application
- タイトル別名
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原子オーダ平坦化シリコンの形成方法とその応用に関する研究
- 著者名
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李, 翔
- 著者別名
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リ, ショウ
- 学位授与大学
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東北大学
- 取得学位
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博士 (工学)
- 学位授与番号
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甲第14298号
- 学位授与年月日
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2011-09-14
注記・抄録
博士論文