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A study on atomic order flattening technology of Si wafer and its application 原子オーダ平坦化シリコンの形成方法とその応用に関する研究

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著者

    • 李, 翔 リ, ショウ

書誌事項

タイトル

A study on atomic order flattening technology of Si wafer and its application

タイトル別名

原子オーダ平坦化シリコンの形成方法とその応用に関する研究

著者名

李, 翔

著者別名

リ, ショウ

学位授与大学

東北大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第14298号

学位授与年月日

2011-09-14

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000563346
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000565567
  • 本文言語コード
    • eng
  • NDL書誌ID
    • 024012998
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
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