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Fluorescent UV-curable resists for UV nanoimprint lithography 光ナノインプリントリソグラフィ用光硬化性蛍光レジスト

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著者

    • 小林, 敬 コバヤシ, ケイ

書誌事項

タイトル

Fluorescent UV-curable resists for UV nanoimprint lithography

タイトル別名

光ナノインプリントリソグラフィ用光硬化性蛍光レジスト

著者名

小林, 敬

著者別名

コバヤシ, ケイ

学位授与大学

東北大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第14631号

学位授与年月日

2012-03-27

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000563720
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000565941
  • 本文言語コード
    • eng
  • NDL書誌ID
    • 024021416
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
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