Development of critical dimension control on advanced lithography era 先端リソグラフィにおける寸法精度向上技術開発

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著者

    • 井上, 壮一 イノウエ, ソウイチ

書誌事項

タイトル

Development of critical dimension control on advanced lithography era

タイトル別名

先端リソグラフィにおける寸法精度向上技術開発

著者名

井上, 壮一

著者別名

イノウエ, ソウイチ

学位授与大学

東京工業大学

取得学位

博士(工学)

学位授与番号

甲第8547号

学位授与年月日

2011-09-25

注記・抄録

博士論文

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000569163
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000571441
  • 本文言語コード
    • eng
  • NDL書誌ID
    • 024342217
  • データ提供元
    • NDL ONLINE
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