Studies on Plasma Etching Process Based on Autonomous Control for Nano-meter Fabrication ナノメータ精度加工に向けた自律制御プラズマエッチングプロセスに関する研究

著者

    • SUZUKI, Toshiya
    • 鈴木, 俊哉

書誌事項

タイトル

Studies on Plasma Etching Process Based on Autonomous Control for Nano-meter Fabrication

タイトル別名

ナノメータ精度加工に向けた自律制御プラズマエッチングプロセスに関する研究

著者名

SUZUKI, Toshiya

著者名

鈴木, 俊哉

学位授与大学

名古屋大学

取得学位

博士(工学)

学位授与番号

甲第10598号

学位授与年月日

2014-02-25

注記・抄録

17アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000915952
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000001578033
    • 8000001578034
  • 本文言語コード
    • eng
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDLデジタルコレクション
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