Surface Roughning during Low Temperature Si(100)Epitaxy
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収録刊行物
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- J. Appl. Phys.
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J. Appl. Phys. 82 1157-1165, 1997
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詳細情報
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- CRID
- 1573387450619967104
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- NII論文ID
- 80009794640
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- NII書誌ID
- AA00693547
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- データソース種別
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- CiNii Articles