Controlling threading dislocation densities in Ge on Si using graded SiGe layers and chemical-mechanical polishing
収録刊行物
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- Appl. Phys. Lett.
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Appl. Phys. Lett. 72 1718-1720, 1998
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詳細情報
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- CRID
- 1570291226780918656
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- NII論文ID
- 80010212670
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- データソース種別
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- CiNii Articles