大気圧プラズマCVDによるSiの低温・高速エピタキシャル成長(第3報) : 成膜速度と温度の関係
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収録刊行物
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- 精密工学会大会学術講演会講演論文集
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精密工学会大会学術講演会講演論文集 2002 (2), 369-, 2002-10-01
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1573950401496239360
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- NII論文ID
- 80015784427
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- NII書誌ID
- AN1018673X
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- CiNii Articles