半導体プロセス環境における化学汚染とその対策

著者

• 斉木, 篤 サイキ, アツシ
• 呂, 俊民 ロ, トシタミ
• 藤本, 武俊 フジモト, タケトシ

書誌事項

半導体プロセス環境における化学汚染とその対策

斉木篤,呂俊民,藤本武俊[編集]

リアライズ社, 1997.10

タイトル別名

半導体プロセスにおける化学汚染とその対策

タイトル読み

ハンドウタイ プロセス カンキョウ ニオケル カガク オセン ト ソノ タイサク

注記

執筆者:平岩篤ほか

各節末:参考文献

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA36473110
• ISBN:
  • 4898080014
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: 東京
• ページ数/冊数: 18,426,9p
• 大きさ: 27cm