X線分析最前線

著者

• 佐藤, 公隆 サトウ, キミタカ
• 合志, 陽一 ゴウシ, ヨウイチ

書誌事項

X線分析最前線

佐藤公隆編集

アグネ技術センター, 2002.3

改訂

タイトル別名

X線分析最前線

タイトル読み

Xセン ブンセキ サイゼンセン

注記

監修: 合志陽一

X線分析100年略年表 木村正雄作成: p375-376

内容説明・目次

内容説明

「総論」では概要、各手法の特徴と使い分けについて、「方法論」でＰＩＸＥや全反射蛍光Ｘ線などの先端的内容を、「応用編」は薄膜・半導体やユニークな物質への応用例を紹介するなど、全編を通してＸ線分析の最前線の情報を網羅した。分析技術者、材料研究者ばかりでなく、先進材料の現場においても必携の書。

目次

• 総論（新たな発展期を迎えたＸ線分析；Ｘ線分析の特徴と使い分け—なぜＸ線分析を使うのか）
• 方法論（全反射蛍光Ｘ線分析；蛍光Ｘ線の干渉現象；Ｘ線回折分析；イオン励起Ｘ線分析（ＰＩＸＥ）　ほか）
• 応用編（半導体材料とＸ線分析；金属・無機材料とＸ線分析；有機・高分子材料とＸ線分析；カラーラウエ法による薄膜の構造解析　ほか）

「BOOKデータベース」 より

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA56252577
• ISBN:
  • 4900041955
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: 東京
• ページ数/冊数: viii, 386p
• 大きさ: 21cm
• 分類:
  • NDC8 : 433.5
  • NDC9 : 433.57
• 件名:
  • BSH : エックス線分光分析