はじめての半導体リソグラフィ技術
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はじめての半導体リソグラフィ技術
（ビギナーズブックス, 29）
工業調査会, 2003.6
- タイトル読み
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ハジメテ ノ ハンドウタイ リソグラフィ ギジュツ
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内容説明・目次
内容説明
半導体集積回路の発展を支えてきたのは、微細なパターンを造り出す半導体リソグラフィ技術である。本書はこの変遷の激しいリソグラフィ技術の全貌を解説したもの。具体的には、光、電子線、Ｘ線・ＥＵＶなど様々なリソグラフィ技術の原理、特徴などを述べるとともに、パターン形成に重要なマスク技術、レジスト技術、計測評価技術についてふれ、さらに今後の課題と展望についても詳細に解説している。
目次
- 第１章 半導体集積回路の発展とリソグラフィ技術
- 第２章 光リソグラフィ技術
- 第３章 電子線リソグラフィ技術
- 第４章 Ｘ線・ＥＵＶリソグラフィ技術
- 第５章 その他のリソグラフィ技術
- 第６章 マスク技術
- 第７章 レジスト技術
- 第８章 評価計測技術
- 第９章 リソグラフィ技術の今後の課題と展望
「BOOKデータベース」 より