半導体CMP用語事典

著者

    • 精密工学会プラナリゼーションCMPとその応用技術専門委員会 セイミツ コウガクカイ プラナリゼーション CMP ト ソノ オウヨウ ギジュツ センモン イインカイ

書誌事項

半導体CMP用語事典

精密工学会プラナリゼーションCMPとその応用技術専門委員会編

オーム社, 2008.10

タイトル別名

Chemical mechanical polishing

タイトル読み

ハンドウタイ CMP ヨウゴ ジテン

大学図書館所蔵 件 / 全53件

注記

標題紙と背の出版者表記: Ohmsha

CMP装置の年表: p241-242

参考文献: p253

内容説明・目次

内容説明

加工技術・装置、洗浄・洗浄化技術、計測・評価技術、デバイス化技術などの各分野について、半導体ＣＭＰ技術・工程に関連する重要用語約４５０語を、図表・データを用いてわかりやすく解説。付録には、現場実務に必要なデータや関連する単位、ＣＭＰ装置の年表や、関連学協会機関略称一覧などの便利な情報を掲載。巻末の索引には、英和用語索引を掲載し、使いやすく調べやすい構成。

「BOOKデータベース」 より

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