ナノ・インプリント技術によるシリコン薄膜の結晶位置と方位制御の研究

著者

• 浅野, 種正 アサノ, タネマサ

書誌事項

ナノ・インプリント技術によるシリコン薄膜の結晶位置と方位制御の研究

浅野種正研究代表

（科学研究費補助金(基盤研究(B))研究成果報告書, 平成15年度-平成17年度）

[九州工業大学], 2006.3

タイトル読み

ナノ・インプリント ギジュツ ニヨル シリコン ハクマク ノ ケッショウ イチ ト ホウ イセイギョ ノ ケンキュウ

注記

参考文献あり

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BB05268985
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpneng
• 出版地: [北九州]
• ページ数/冊数: 1冊
• 大きさ: 30cm
• 親書誌ID:
  • BA31388455