よくわかる最新半導体リソグラフィの基本と仕組み : リソグラフィ技術の核心に迫る : 微細化の鍵

書誌事項

よくわかる最新半導体リソグラフィの基本と仕組み : リソグラフィ技術の核心に迫る : 微細化の鍵

佐藤淳一著

(How-nual図解入門)

秀和システム, 2011.10

タイトル読み

ヨク ワカル サイシン ハンドウタイ リソグラフィ ノ キホン ト シクミ : リソグラフィ ギジュツ ノ カクシン ニ セマル : ビサイカ ノ カギ

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注記

文献: p271

内容説明・目次

内容説明

プロセスフローを例にして基礎から発展までの技術が豊富なイラストで手に取るようにわかる。

目次

  • リソグラフィ技術とは引き算のプロセス?
  • 光リソグラフィの発展
  • 露光技術と装置
  • レジスト材料
  • レジスト塗布と現像
  • マスクとリソグラフィ技術
  • EUVリソグラフィ
  • リソグラフィの計測技術
  • 多彩なパターニング技術
  • CMOSロジックプロセス(フロントエンド)
  • a−Si TFTプロセス
  • a−Si太陽電池プロセス

「BOOKデータベース」 より

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詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BB07554941
  • ISBN
    • 9784798030630
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    jpn
  • 本文言語コード
    jpn
  • 出版地
    東京
  • ページ数/冊数
    271p
  • 大きさ
    21cm
  • 分類
  • 件名
  • 親書誌ID
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