薄膜の基本技術
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薄膜の基本技術
(物理工学実験, 5)
東京大学出版会, 1987.9
第2版
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ハクマク ノ キホン ギジュツ
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薄膜の基本技術
1987
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薄膜の基本技術
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注記
文献: p157-158
内容説明・目次
目次
- 1. はじめに
- 2. 薄膜作製に必要な真空装置の基礎(基本的な真空装置;真空ポンプの原理)
- 3. 真空蒸着法(基本的な公式;蒸着薄膜作製の具体例)
- 4. スパタリング法(スパタリングの基本;基本的なスパタリング装置—二極直流スパタリング法)
- 5. プラズマプロセス(プラズマCVD;イオンプレーティング)
- 6. 膜厚測定法(膜厚とは何か;繰返し反射干渉法;電気抵抗法)
- 7. 関連技術(単結晶薄膜の作製技術;非晶質薄膜の作製技術;電極の蒸着)
「BOOKデータベース」 より