劉 冲 LIU Chong

ID:9000300662311

名古屋大学大学院工学研究科 Graduate School of Engineering, Nagoya University (2014年 CiNii収録論文より)

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  • ナノドットを電極に用いたNi/SiOx/Niダイオードの抵抗変化特性評価 (シリコン材料・デバイス)

    大田 晃生 , , 荒井 崇 [他] , 竹内 大智 , 張 海 , 牧原 克典 , 宮崎 誠一

    導電性パスの存在が顕在化する局所領域で生じる電気抵抗変化現象を調べるために、金属薄膜へのリモート水素プラズマ(H_2-RP)支援によるナノドット形成技術を活用してNiナノドット/SiO_x/Niダイオードを作成し、電流-電圧(I-V)特性を調べた。電子線(EB)蒸着した厚さ10nmのSiO_x/Ni下部電極上に厚さ2nmのNi薄膜を堆積し、H_2-RP処理により平均高さ8.7nmおよび平均面積1. …

    電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 114(88), 69-73, 2014-06-19

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