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  • 堀池 靖浩 ID: 9000019943127

    Articles in CiNii:1

    • ISFET (2000)
  • 堀池 靖浩 ID: 9000020337972

    東京大学大学院工学研究科 (2002 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • ナノポア・ナノチャネルを泳動する長鎖DNAの直接観察とレオロジー (2002)
  • 堀池 靖浩 ID: 9000253404394

    Articles in CiNii:1

    • LSI製造におけるドライエッチング技術の動向 (1985)
  • 堀池 靖浩 ID: 9000253404642

    Articles in CiNii:1

    • IV. プラズマの応用 (1987)
  • 堀池 靖浩 ID: 9000253405171

    Articles in CiNii:1

    • VI. プロセス用プラズマの制御最前線 (1990)
  • 堀池 靖浩 ID: 9000253687903

    東芝総研 (1984 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • 招待講演紫外レーザによる光化学反応の集積回路製造プロセスへの応用 (1984)
  • 堀池 靖浩 ID: 9000254752807

    (株)東芝 (1985 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • Special issue on semiconductors - Materials and processing technologies. High rate reactive ion etching. (1985)
  • 堀池 靖浩 ID: 9000330329580

    Articles in CiNii:1

    • 応用物理学会業績賞受賞者随想 ケミカルドライエッチングの発見が研究人生を開いた (2016)
  • 堀池 靖浩 ID: 9000363142044

    Articles in CiNii:1

    • 半導体製造用プロセシングプラズマ(<特集>期待されるブレイクスルー) (1993)
  • HORIIKE Y ID: 9000256496245

    東京大学大学院工学系研究科 (2001 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • マイクロ化学デバイスは医療を進化させるか?  極微量全血分離・分析を目指したヘルスケアチップの創製 (2001)
  • HORIIKE Yasuhiro ID: 9000002886995

    National Institute for Materials Science (2011 from CiNii)

    Articles in CiNii:36

    • SF_6プラズマによるシリコンウェーハの超精密加工 (1998)
    • Defect structure of carbon nanotube and the electronic porperties (2000)
    • Beam induced silicon LSI process. (1992)
  • HORIIKE Yasuhiro ID: 9000020742828

    Articles in CiNii:1

    • Recent Plasma Processing Technology. Etching Process Employing High Density Plasmas. (1994)
  • HORIIKE Yasuhiro ID: 9000020751179

    Articles in CiNii:1

    • Microfabrication technologies for high aspect ratio processes. (1987)
  • HORIIKE Yasuhiro ID: 9000253320389

    東芝総合研究所 (1975 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • CCD Analog Delay Line (1975)
  • HORIIKE Yasuhiro ID: 9000253323004

    Toshiba Research and Development Center, Toshiba VLSI Research Center. (1984 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • UV Light-Excited Silicon Dry Etching (1984)
  • HORIIKE Yasuhiro ID: 9000253324262

    (株)東芝超LSI研究所 (1988 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • Beam Technologies (1988)
  • HORIIKE Yasuhiro ID: 9000253325614

    Department of Electrical Engineering, Hiroshima University. (1992 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • Beam induced silicon LSI process (1992)
  • HORIIKE Yasuhiro ID: 9000253327050

    Faculty of Engineering, Toyo University|School of Engineering, The University of Tokyo (1998 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • A new implement discovers new physical phenomena (1998)
  • HORIIKE Yasuhiro ID: 9000253648137

    Dept. of Electrical Engineering, Hiroshima University (1992 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • Si Processes and Si-H Surface. Studies on Surface Reaction Processes Using FTIR-ATR.:Studies on Surface Reaction Processes Using FTIR-ATR (1992)
  • HORIIKE Yasuhiro ID: 9000253687575

    Toshiba R & D Center, VLSI Research Center (1984 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • Application of photo Chemical Reaction to Semi-Conductor Process (1984)
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