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  • 木下 正治 ID: 9000005396350

    東芝 （1998 from CiNii）

    Articles in CiNii:3

    • 大型マイクロ波プラズマ源によるTFT液晶ディスプレイのドライエッチング (液晶ディスプレイ<特集>) （1995）
    • 3C3 生産技術の研究, 開発, 実用化の統合的マネジメント : 策1報フレームワーク （1995）
    • 1A9 生産技術の研究・開発・実用化の統合マネジメント : (第二報) 技術のリファインサイクル （1998）
  • 木下 正治 ID: 9000008244718

    Articles in CiNii:4

    • 高精度ウェ-ハ両面ポリシング技術 （1982）
    • 液晶基板のフロンレス洗浄技術 (環境技術<特集>) （1992）
    • 液晶パネル洗浄技術 (TFT液晶ディスプレイ<特集>) （1993）
  • 木下 正治 ID: 9000010445586

    Articles in CiNii:2

    • Churg-Strauss syndrome （2007）
    • 老人医療 ターミナル(第44回)慢性呼吸不全のターミナルケア （2009）
  • 木下 正治 ID: 9000241437502

    Articles in CiNii:1

    • Optogenetics in primates （2013）
  • 木下 正治 ID: 9000253613574

    久留米大学第1内科 （1990 from CiNii）

    Articles in CiNii:1

    • 形態・細気管支病変 （1990）
  • 木下 正治 ID: 9000253618674

    久留米大学第一内科 （1992 from CiNii）

    Articles in CiNii:1

    • 肺癌・肺腫瘍34 （1992）
  • 木下 正治 ID: 9000253622001

    久留米大学第一内科 （1993 from CiNii）

    Articles in CiNii:1

    • 職業性肺疾患 （1993）
  • 木下 正治 ID: 9000253626043

    久留米大学第1内科 （1995 from CiNii）

    Articles in CiNii:1

    • Microorganisms Cultured from Sputum and Blood in Association with Episodes of Fever During anti-cancer Therapy in Patients with Lung Cancer. （1995）
  • 木下 正治 ID: 9000258639151

    ロデール·ニッタ　技術開発本部 （2004 from CiNii）

    Articles in CiNii:1

    • Control of the polishing perfomance with polishing pad surface roughness （2004）
  • 木下 正治 ID: 9000283812351

    ニッタ・ハース 技術開発本部 製品技術部 （2007 from CiNii）

    Articles in CiNii:1

    • Study on Removing of Native Oxide during Silicon Wafer Polishing （2007）
  • 木下 正治 ID: 9000367403830

    Articles in CiNii:1

    • 新薬の最近の話題 インダカテロール : 慢性閉塞性肺疾患治療薬 （2012）
  • 木下 正治 ID: 9000391912455

    清和会長田病院呼吸器内科 （2010 from CiNii）

    Articles in CiNii:1

    • 終末期呼吸器疾患における呼吸リハビリテーションの介入:―呼吸リハビリテーションの必要性の検討― （2010）
  • KINOSHITA Masaharu ID: 9000000466798

    Corporate Manufacturing Engineering Center, Toshiba Corporation （2001 from CiNii）

    Articles in CiNii:1

    • Cu Interconnection and Planarization CMP （2001）
  • KINOSHITA Masaharu ID: 9000000885715

    The 1st Department of Internal Medicine, Kurume Universiy School of Medicine （2001 from CiNii）

    Articles in CiNii:1

    • A Case of Wegener's GranuIomatosis of the Upper RespiratoryTract and Orbitsthat Improved after Pulse Cyclophosphamide Therapy （2001）
  • KINOSHITA Masaharu ID: 9000001584462

    Articles in CiNii:3

    • CMP in Semiconductor Device Process(Introduction to Precision Engineering) （2005）
    • 半導体の必須プロセスとなったCMP技術 (特集 砥粒加工学会法人化10周年記念特別講演集) （2005）
    • CMPパッドの表面状態解析と研磨特性 (特集 ハイテク部品の超精密研磨加工技術--ストレスリリーフと超精密仕上げ) （2006）
  • KINOSHITA Masaharu ID: 9000002884612

    Articles in CiNii:4

    • Mn-Zn単結晶フェライトの加工変質層と磁区構造 （1978）
    • Machining Effect on Magnetic Properties of Mn-zn Single Crystal ferrites (1st Report) : Change of Initial Permeability due to Machining Processes （1976）
    • Magnetic Domain Observation Technique using Scanning Electron Microscope : Application to Surface Damaged Layer Study of Mn-Zn Single Crystal Ferrites （1977）
  • KINOSHITA Masaharu ID: 9000002956047

    ニッタ・ハース(株)京都工場 （2007 from CiNii）

    Articles in CiNii:6

    • Cu-CMP 用研磨液の開発 -pH調整による研磨速度の高速化 （1995）
    • プラナリゼーション/CMPとその応用 （1999）
    • 第1回環太平洋プラナリゼーションCMPとその応用技術に関する国際会議2004 （2005）
  • KINOSHITA Masaharu ID: 9000002957604

    (株)東芝 （2000 from CiNii）

    Articles in CiNii:2

    • プラナリゼーションCMPプロセスとそれを実現する装置システムの方向 （2000）
    • CMP Planarization: Process, Machine and Consumables （1996）
  • KINOSHITA Masaharu ID: 9000006349600

    Nitta Haas Incorporated （2005 from CiNii）

    Articles in CiNii:7

    • シリカスラリーの再分散性 （2002）
    • Wスラリーにおける研磨特性の向上 （2002）
    • Analysis of the surface roughness of polishing pad and Cu polishing （2004）
  • KINOSHITA Masaharu ID: 9000020718699

    Articles in CiNii:1

    • Edge profile quality on electro-magnetic properties of magnetic heads. （1988）
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