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  • 木下 正治 ID: 9000005396350

    東芝 (1998 from CiNii)

    Articles in CiNii:3

    • 大型マイクロ波プラズマ源によるTFT液晶ディスプレイのドライエッチング (液晶ディスプレイ<特集>) (1995)
    • 3C3 生産技術の研究, 開発, 実用化の統合的マネジメント : 策1報フレームワーク (1995)
    • 1A9 生産技術の研究・開発・実用化の統合マネジメント : (第二報) 技術のリファインサイクル (1998)
  • 木下 正治 ID: 9000008244718

    Articles in CiNii:4

    • 高精度ウェ-ハ両面ポリシング技術 (1982)
    • 液晶基板のフロンレス洗浄技術 (環境技術<特集>) (1992)
    • 液晶パネル洗浄技術 (TFT液晶ディスプレイ<特集>) (1993)
  • 木下 正治 ID: 9000010445586

    Articles in CiNii:2

    • Churg-Strauss syndrome (2007)
    • 老人医療 ターミナル(第44回)慢性呼吸不全のターミナルケア (2009)
  • 木下 正治 ID: 9000241437502

    Articles in CiNii:1

    • Optogenetics in primates (2013)
  • 木下 正治 ID: 9000253613574

    久留米大学第1内科 (1990 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • 形態・細気管支病変 (1990)
  • 木下 正治 ID: 9000253618674

    久留米大学第一内科 (1992 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • 肺癌・肺腫瘍34 (1992)
  • 木下 正治 ID: 9000253622001

    久留米大学第一内科 (1993 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • 職業性肺疾患 (1993)
  • 木下 正治 ID: 9000253626043

    久留米大学第1内科 (1995 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • Microorganisms Cultured from Sputum and Blood in Association with Episodes of Fever During anti-cancer Therapy in Patients with Lung Cancer. (1995)
  • 木下 正治 ID: 9000258639151

    ロデール·ニッタ 技術開発本部 (2004 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • Control of the polishing perfomance with polishing pad surface roughness (2004)
  • 木下 正治 ID: 9000283812351

    ニッタ・ハース 技術開発本部 製品技術部 (2007 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • Study on Removing of Native Oxide during Silicon Wafer Polishing (2007)
  • 木下 正治 ID: 9000367403830

    Articles in CiNii:1

    • 新薬の最近の話題 インダカテロール : 慢性閉塞性肺疾患治療薬 (2012)
  • 木下 正治 ID: 9000391912455

    清和会長田病院呼吸器内科 (2010 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • 終末期呼吸器疾患における呼吸リハビリテーションの介入:―呼吸リハビリテーションの必要性の検討― (2010)
  • KINOSHITA Masaharu ID: 9000000466798

    Corporate Manufacturing Engineering Center, Toshiba Corporation (2001 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • Cu Interconnection and Planarization CMP (2001)
  • KINOSHITA Masaharu ID: 9000000885715

    The 1st Department of Internal Medicine, Kurume Universiy School of Medicine (2001 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • A Case of Wegener's GranuIomatosis of the Upper RespiratoryTract and Orbitsthat Improved after Pulse Cyclophosphamide Therapy (2001)
  • KINOSHITA Masaharu ID: 9000001584462

    Articles in CiNii:3

    • CMP in Semiconductor Device Process(Introduction to Precision Engineering) (2005)
    • 半導体の必須プロセスとなったCMP技術 (特集 砥粒加工学会法人化10周年記念特別講演集) (2005)
    • CMPパッドの表面状態解析と研磨特性 (特集 ハイテク部品の超精密研磨加工技術--ストレスリリーフと超精密仕上げ) (2006)
  • KINOSHITA Masaharu ID: 9000002884612

    Articles in CiNii:4

    • Mn-Zn単結晶フェライトの加工変質層と磁区構造 (1978)
    • Machining Effect on Magnetic Properties of Mn-zn Single Crystal ferrites (1st Report) : Change of Initial Permeability due to Machining Processes (1976)
    • Magnetic Domain Observation Technique using Scanning Electron Microscope : Application to Surface Damaged Layer Study of Mn-Zn Single Crystal Ferrites (1977)
  • KINOSHITA Masaharu ID: 9000002956047

    ニッタ・ハース(株)京都工場 (2007 from CiNii)

    Articles in CiNii:6

    • Cu-CMP 用研磨液の開発 -pH調整による研磨速度の高速化 (1995)
    • プラナリゼーション/CMPとその応用 (1999)
    • 第1回環太平洋プラナリゼーションCMPとその応用技術に関する国際会議2004 (2005)
  • KINOSHITA Masaharu ID: 9000002957604

    (株)東芝 (2000 from CiNii)

    Articles in CiNii:2

    • プラナリゼーションCMPプロセスとそれを実現する装置システムの方向 (2000)
    • CMP Planarization: Process, Machine and Consumables (1996)
  • KINOSHITA Masaharu ID: 9000006349600

    Nitta Haas Incorporated (2005 from CiNii)

    Articles in CiNii:7

    • シリカスラリーの再分散性 (2002)
    • Wスラリーにおける研磨特性の向上 (2002)
    • Analysis of the surface roughness of polishing pad and Cu polishing (2004)
  • KINOSHITA Masaharu ID: 9000020718699

    Articles in CiNii:1

    • Edge profile quality on electro-magnetic properties of magnetic heads. (1988)
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