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  • 杉田 久哉 ID: 9000311055282

    Articles in CiNii:2

    • 高精度ガス制御器を用いたAl₂O₃のALD成膜におけるプロセス温度の検討 (シリコン材料・デバイス) (2015)
    • 原子層堆積法で成膜したAl₂O₃膜界面に及ぼす酸化種の影響 (シリコン材料・デバイス) (2016)
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