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  • 横谷 篤至 ID: 9000008992873

    Articles in CiNii:2

    • レ-ザ-核融合用大型KDP単結晶の育成 (1983)
    • 非線形光学と量子光学 (IQEC′88報告-1-) (1988)
  • 横谷 篤至 ID: 9000009353567

    Articles in CiNii:1

    • 寄稿 1兆分の1秒より短いきらめきのレーザー光線 (2002)
  • 横谷 篤至 ID: 9000010665385

    Articles in CiNii:1

    • Processings for ultra-thin films of nitrides utilizing the vacuum ultraviolet radiation (2009)
  • 横谷 篤至 ID: 9000015252671

    Articles in CiNii:1

    • 真空紫外光を用いた極薄膜の作製 (特集 新素材・ナノテクのライセンス技術) (2009)
  • 横谷 篤至 ID: 9000020109932

    宮崎大学工学部 (2004 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • Dicing Process for Thin Silicon Wafer by Using Femtosecond-laser:—Effect of Laser Pulse Width on Flexural Strength and Cutting Quality— (2004)
  • 横谷 篤至 ID: 9000252924672

    レーザー総研 (1989 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • レーザー装置 (1989)
  • 横谷 篤至 ID: 9000252926890

    宮崎大学工学部 (2000 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • B. レーザー装置 (2000)
  • 横谷 篤至 ID: 9000253687682

    大阪大学レーザー核融合研究センター (1984 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • B レーザー装置3 (1984)
  • 横谷 篤至 ID: 9000253688151

    阪大レーザー研究センター (1985 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • レーザー装置 その2 (1985)
  • 横谷 篤至 ID: 9000253688748

    大阪大学レーザー核融合研究センター (1986 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • 内部鏡型ホローカソードHe-Cd IIレーザーの特性 (1986)
  • 横谷 篤至 ID: 9000253689238

    阪大レーザー研 (1987 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • レーザーエネルギー応用 (1987)
  • 横谷 篤至 ID: 9000253690146

    阪大レーザー研|大阪大学レーザー研 (1988 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • Development of Highly Damage-Resistant Cavity Mirrors For Rare Gas Excimer Lasers (1988)
  • 横谷 篤至 ID: 9000253690476

    大阪大学レーザー核融合研究センター (1988 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • レーザーエネルギー応用 (1988)
  • 横谷 篤至 ID: 9000253691144

    Articles in CiNii:1

    • レーザー装置 (1990)
  • 横谷 篤至 ID: 9000253695511

    宮崎大工 (1995 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • レーザープロセッシング (1995)
  • 横谷 篤至 ID: 9000253697590

    宮崎大学 (1998 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • Recent development of laser application. Field of semiconductor integrated circuit. (1998)
  • 横谷 篤至 ID: 9000303923989

    Articles in CiNii:1

    • Ultrashort Pulse Vacuum Ultraviolet Laser System by Using Optical-Field-Induced Ionization Argon Excimer Amplifier (2015)
  • 横谷 篤至 ID: 9000305643578

    Articles in CiNii:1

    • Study for the Possibility of Utilization of Lower Volatility Material in Thin Film Deposition by the Vacuum Ultraviolet CVD (2015)
  • 横谷 篤至 ID: 9000305643585

    Articles in CiNii:1

    • Flattening Treatment of Substrate for Optical Components Using the Vacuum Ultraviolet CVD (2015)
  • 横谷 篤至 ID: 9000331453303

    Articles in CiNii:1

    • Formation of SiO2-like Thin Films under Atomospheric Pressure by Vacuum Ulraviolet CVD using Ultrasonic Assisted Vaporizer (2016)
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