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  • 溝口 計 ID: 9000008906045

    Articles in CiNii:4

    • 超微細加工を支える急峻大出力の「エキシマレ-ザ用パルスパワ-」 (電力変換システム特集) -- (エネルギ-の有効利用) (1996)
    • マックス・プランク研究所における高出力超短パルスエキシマレ-ザ-の開発 (1990)
    • エキシマレーザーの現状と将来 (特集 紫外光リソグラフィーと周辺技術) (1998)
  • 溝口 計 ID: 9000009291355

    Articles in CiNii:2

    • リソグラフィ用エキシマレ-ザ--KrFおよびArFエキシマレ-ザ光源の最新技術動向について (特集 光リソグラフィのフロンティア) (1998)
    • 製品技術紹介 Gigaphoton G40K--繰り返し周波数従来比2倍のリソグラフィ用KrFエキシマレーザー光源 (2002)
  • 溝口 計 ID: 9000018378153

    Articles in CiNii:1

    • 6kHz露光用インジェクションロックArFエキシマレーザ (特集 半導体次世代キープロセスと新材料) -- (注目技術1:液浸リソグラフィ技術) (2006)
  • 溝口 計 ID: 9000250742655

    Articles in CiNii:1

    • Development of Light Sources for Lithography at Present and for the Future (2013)
  • 溝口 計 ID: 9000252926861

    (株) 小松製作所 (2000 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • B. レーザー装置 (2000)
  • 溝口 計 ID: 9000253692615

    KOMATSU研究本部 (1992 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • レーザー装置 その1 (1992)
  • 溝口 計 ID: 9000253695931

    コマツ中央研究所 (1996 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • リソグラフィー用エキシマレーザー (1996)
  • 溝口 計 ID: 9000257902777

    ギガフォトン (株) (2007 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • ArF Excimer Laser for Microlithography (2007)
  • 溝口 計 ID: 9000267846290

    Articles in CiNii:1

    • リソグラフィ用光源開発の現状と将来 (特集 半導体リソグラフィの過去・現在・未来) (2014)
  • 溝口 計 ID: 9000313625657

    Articles in CiNii:1

    • EUVLの夜明け (特集 未来に羽ばたくオプティクス+エレクトロニクス) (2016)
  • 溝口 計 ID: 9000336048381

    Articles in CiNii:1

    • Updating of Excimer Laser for Lithography and Development of Hybrid-ArF Laser (2016)
  • 溝口 計 ID: 9000356626765

    Articles in CiNii:1

    • Short wavelength light source for semiconductor manufacturing : Challenge from excimer laser to LPP-EUV light source (2016)
  • 溝口 計 ID: 9000361676328

    Articles in CiNii:1

    • Short wavelength light source for semiconductor manufacturing Challenge from excimer laser to LPP-EUV light source (2017)
  • 溝口 計 ID: 9000368409380

    Articles in CiNii:1

    • Development of Laser Processing Technology with Hybrid ArF Laser in Extremely Short Wavelength (2017)
  • 溝口 計 ID: 9000383218798

    Articles in CiNii:1

    • Development of High Power EUV Source for Semiconductor High Volume Manufacturing (2018)
  • 溝口 計 ID: 9000394965217

    Articles in CiNii:1

    • Development Status of High Power EUV Light Source Development for Exposure in Semiconductor Mass Production (2017)
  • 溝口 計 ID: 9000397963100

    Articles in CiNii:1

    • 半導体量産露光用高出力EUV光源の開発 (2018)
  • 溝口 計 ID: 9000399564862

    Articles in CiNii:1

    • EUV light generation using laser induced Sn plasma for semiconductor high volume manufacturing (2019)
  • MIZOGUCHI Hakaru ID: 9000001655201

    Articles in CiNii:2

    • Development of KrF Excimer Laser (1996)
    • KrFエキシマレ-ザ光源--高信頼性化への取り組みと課題 (特集:次世代リソグラフィにおけるウルトラクリ-ンテクノロジ-の役割) (1997)
  • MIZOGUCHI Hakaru ID: 9000003403800

    Articles in CiNii:13

    • リソグラフィー用エキシマレーザー (1996)
    • Durability evaluation of 1kHz ArF excimer laser for lithography (1999)
    • Development of 2kHz KrF excimer laser for microlithography (1999)
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