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  • 石橋 啓次 ID: 9000009067790

    Articles in CiNii:1

    • 解説 マグネトロンスパッタリング法を用いた複合酸化物薄膜形成における高エネルギー粒子衝撃の影響 (1999)
  • 石橋 啓次 ID: 9000010191080

    Articles in CiNii:1

    • 高均一成膜スパッタ装置 (2006)
  • 石橋 啓次 ID: 9000388488090

    Articles in CiNii:1

    • Ce酸化物を添加したPr酸化物の構造変化 (2016)
  • 石橋 啓次 ID: 9000401511466

    Articles in CiNii:1

    • RFマグネトロンコスパッタ法によるCeO₂+Si複合酸化膜の形成と評価 (2017)
  • 石橋 啓次 ID: 9000401511477

    Articles in CiNii:1

    • コンビナトリアルスパッタ法により形成したAl₂O₃/CeO₂コンポジションスプレッド薄膜の電気特性 (2017)
  • ISHIBASHI Keiji ID: 9000000033099

    Electron Device Equipment Engineering Div., Canon ANELVA Corporation (2007 from CiNii)

    Articles in CiNii:7

    • The Study of Oxygen-doping Mechanisms in ITO Sputtering using the Quantitative Analysis Method (1997)
    • Development of a High-Vacuum Planar Magnetron Discharge (1992)
    • Preparations of Y_1Ba_2Cu_3O_y Thin Films by Multiple-cathode Magnetron Sputtering (1992)
  • ISHIBASHI Keiji ID: 9000000041158

    Research & Development Lab., Anelva Corporation (1998 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • Film Formation by Sputtering (1998)
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