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  • 羽田 祐一 ID: 9000003417699

    日電 半導体 (1965 from CiNii)

    Articles in CiNii:2

    • SiO_2の気相成長 : 半導体 : 気相成長 (1965)
    • Si気相生長における不純物の影響 : 応用半導体 (1964)
  • 羽田 祐一 ID: 9000003418197

    日電IC (1969 from CiNii)

    Articles in CiNii:7

    • SiO_2の気相成長 : 半導体 : 結晶,表面 (1966)
    • Ge dendrite中の不純物分布 : 半導体 (1961)
    • Ge及びSiのEpitaxial Growth : 半導体 (1961)
  • 羽田 祐一 ID: 9000003586512

    日本電気.半導体 (1964 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • 5p-F-1 SiO_2の気相成長 (1964)
  • 羽田 祐一 ID: 9000007749658

    Articles in CiNii:1

    • 心の時代に向けて--これからの日本を考える(16)"身体知"の時代だから豊かな感性をもって世界と向かい合うべし (2002)
  • 羽田 祐一 ID: 9000008181571

    Articles in CiNii:2

    • 半導体技術入門講座-1-ウェ-ハ加工技術 (1977)
    • SiO2被膜の気相成長 (電子材料特集号) (1967)
  • 羽田 祐一 ID: 9000008201073

    Articles in CiNii:1

    • LSIの技術動向--デバイス・プロセス・実装 (LSIの検査・試験とそのテスタ<特集>) -- (テスト技術開発・利用の指針) (1980)
  • 羽田 祐一 ID: 9000008386630

    Articles in CiNii:1

    • <産業シンポジウム>半導体景気の行方は?--個人向けパソコン需要が回復のカギに (1996)
  • 羽田 祐一 ID: 9000009078847

    Articles in CiNii:2

    • 半導体デバイス特集によせて (半導体デバイス<特集>) (1994)
    • 半導体デバイス特集によせて (半導体デバイス特集) (1996)
  • 羽田 祐一 ID: 9000009839293

    Articles in CiNii:1

    • 品質工学でスピード経営を実現する (特別企画 経営に寄与する品質工学) -- (品質工学への取組み--経営に寄与する品質工学) (2004)
  • 羽田 祐一 ID: 9000009872746

    Articles in CiNii:1

    • 品質工学の定着に向けて経営者は何をすべきか--第13回企業交流会パネル討論会 (2004)
  • 羽田 祐一 ID: 9000010187031

    Articles in CiNii:1

    • トップの視点 NECトーキン(株) 代表取締役会長 羽田祐一--現場重視の「身体知経営」が未来を拓く (2006)
  • 羽田 祐一 ID: 9000017615340

    Articles in CiNii:2

    • 多層配線法 (IC技術(技術ノート)) (1968)
    • NO2プロセスによるSiO2膜の低温成長 (1968)
  • 羽田 祐一 ID: 9000017658114

    Articles in CiNii:1

    • 気相成長のシリコン酸化膜に関する研究〔博論要旨〕 (1971)
  • 羽田 祐一 ID: 9000018018657

    Articles in CiNii:2

    • Siエピタキシ (半導体技術の最近の進歩-2-(実験技術シリーズ)) (1973)
    • Siエッチング(半導体技術の最近の進歩-13- 実験技術シリーズ) (1974)
  • 羽田 祐一 ID: 9000253318372

    日電集積回路事業部 (1968 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • 多層配線法 (1968)
  • HANEDA Yuichi ID: 9000252843709

    日本電気株式会社集積回路事業部 (1968 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • NO<sub>2</sub> Process for Low-Temperature Deposition of SiO<sub>2</sub> Films (1968)
  • HANETA Yuichi ID: 9000021456181

    Nippon Electric Co., LTD. (1966 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • Vapour Growth of Semiconductors (1966)
  • HANETA Yuuichi ID: 9000004723434

    NEC Corporation (1980 from CiNii)

    Articles in CiNii:1

    • QEC Activities on IC Fabrication (1980)
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